Согласно заявлению компании Molecular Imprints, на которое ссылается источник, один из производителей полупроводниковой продукции использует ее оборудование для перехода на 450-миллиметровые пластины. Уточним, что компания Molecular Imprints специализируется на разработке и выпуске машин для импринт-литографии, а переход с 300-миллиметровых на 450-миллиметровые пластины считается следующим этапом в развитии полупроводникового производства.
По словам Molecular Imprints, ее оборудование позволит ускорить переход полупроводниковой отрасли к 450-миллиметровым пластинам, по меньшей мере, на два года. Говоря более конкретно, речь идет о машине Imprio 450, поступившей в распоряжение неназванного производителя в конце прошлого года в рамках многолетнего контракта.
В основе импринт-литографии — использование штампа с нанорельефом, который выполняют ту же функцию, что и шаблон в контактной оптической литографии. Нанорельеф, формируемый на поверхности штампа с применением электронной литографии и анизотропного плазмохимического травления, в свою очередь, служит для формирования маски из слоя полимера на поверхности полупроводниковой подложки.
Как утверждается, с использованием технологии J-FIL (одна из фирменных разновидностей импринт-литографии, разработанная Molecular Imprints), можно изготавливать 10-нанометровые структуры за один шаг.
Какой производитель использует машину Imprio 450, можно предположить, зная, что полностью обработанную пластину размером 450 мм на мероприятии Industry Strategy Symposium, устроенном отраслевой организацией SEMI, на прошедшей неделе показал представитель компании Intel. По его словам, возможности Imprio 450 хорошо соответствуют потребностям техпроцесса, используемого при производстве памяти, но компания работает и над внедрением J-FIL в серийном производстве логических микросхем по технологии CMOS.
Источник: EE Times
