- PVSM.RU - https://www.pvsm.ru -
Подтверждая неофициальную информацию [1], компания Samsung Electronics сегодня объявила о начале строительства линии про производству полупроводниковой продукции с использованием литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
По мнению производителя, новая линия позволит ему «упрочить лидерство в технологических процессах с нормами, измеряемыми единицами нанометров».
Говоря более конкретно, в Samsung решили использовать EUV, начиная с 7-нанометрового техпроцесса, оптимизированного по критерию энергопотребления микросхем (Low Power Plus или LPP).
Ожидается, что строительство завершится во втором полугодии 2019 года, а в 2020 году начнется освоение производства. Первоначальные инвестиции в предприятие на период до 2020 года оцениваются в 6 млрд долларов. В зависимости от потребностей рынка эта сумма может быть увеличена.
Источник [2]
Сайт-источник PVSM.RU: https://www.pvsm.ru
Путь до страницы источника: https://www.pvsm.ru/news/274016
Ссылки в тексте:
[1] неофициальную информацию: https://www.ixbt.com/news/2018/02/22/samsung-nachala-postrojku-novogo-zavoda-po-vypusku-7nanometrovyh-mikroshem.html
[2] Источник: http://www.ixbt.com/news/2018/02/23/samsung-electronics-euv.html
Нажмите здесь для печати.