Компания Molecular Imprints отгрузила первый модуль для импринт-литографии по нормам менее 20 нм

Компания Molecular Imprints, чье оборудование позволит ускорить переход полупроводниковой отрасли к 450-миллиметровым пластинам ^[1], объявила об отгрузке первого из трех передовых модулей для импринт-литографии, поставка которых намечена на текущий квартал. Эти модули будут интегрированы в степперы партнеров компании.

Напомним, в основе импринт-литографии лежит использование штампа с нанорельефом, который выполняет ту же функцию, что и шаблон в контактной оптической литографии. Нанорельеф, получаемый на поверхности штампа с применением электронной литографии и анизотропного плазмохимического травления, используется для формирования маски из слоя полимера на поверхности полупроводниковой подложки.

В модулях, о которых идет речь, реализована фирменная технология Jet and Flash Imprint Lithography (J-FIL), которая, как утверждается, позволяет получить производительность, необходимую для серийного производства полупроводниковой продукции (конкретно речь идет о чипах памяти) по нормам менее 20 нм. Более того, по словам Molecular Imprints, использование технологии J-FIL дает возможность изготавливать за один шаг 10-нанометровые структуры.

Источник: Molecular Imprints ^[2]