В Китае создано литографическое оборудование для производства полупроводниковой продукции по нормам 28 нм

Санкции США, ограничивающие использование американских технологий Китаем ^[1], не привели к остановке китайской полупроводниковой промышленности. Лишившись возможности закупать не только американское оборудование, но и оборудование, произведенное в других странах с использованием американских технологий, Китай выбрал единственно правильный путь — разработку собственных технологий.

^[2]

Согласно новой информации, компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) уже разработала литографическую установку, работающую в глубоком ультрафиолете (DUV). Ее поставки должны начаться в четвертом квартале 2021 года. Это оборудование подходит для выпуска продукции по нормам 28 нм. Безусловно, это не самый передовой техпроцесс, но в мире всего несколько производителей, способных выпускать такое оборудование. Крупнейшим из них является нидерландская компания ASML. Хотя в ее продукции доля американских технологий ниже порога, определенного в санкциях, по «просьбе» США ASML не поставляет его в Китай ^[3].

Источник ^[4]