Россия создала собственный литограф, он позволяет выпускать 150-нанометровые чипы

В России разработали установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм, её создал Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). Два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые продлятся около четырех месяцев.

Установка предназначена для безмасковой литографии — она позволяет напрямую формировать рисунок микросхем на кремниевых и других подложках, а также изготавливать фотошаблоны без использования масок. Такой подход особенно востребован при разработке прототипов, проведении НИОКР и выпуске небольших партий специализированных микросхем, поскольку избавляет от необходимости производить дорогостоящие фотошаблоны для каждого проекта.

Электронно-лучевая литография значительно уступает фотолитографии по скорости и не подходит для массового производства, однако является важным инструментом для научных исследований, прототипирования и изготовления специализированной электроники, в том числе для космической отрасли.

Ранее ЗНТЦ также разработал отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм. Кроме того, центр работает над оборудованием с нормами 130 нм.

Ранее сообщалось, что разработчик первой советской атомной бомбы получил почти миллиард рублей на создание современных установок для чипов ^[2].