TSMC уже располагает оборудованием для выпуска полупроводниковой продукции по нормам 10 нм

Компания Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC), являющаяся крупнейшим контрактным производителем полупроводниковой продукции, получила литографическое оборудование, работающее в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Это оборудование, поставленное компанией ASML, необходимо для разработки 10-нанометрового технологического процесса и техпроцессов, в которых используются более тонкие нормы.

Компания ASML — признанный лидер среди поставщиков литографических систем для полупроводникового производства. По ее подсчетам, уже получено 11 заказов на машины EUV от клиентов по всему миру.

По оценке ASML, ее клиенты начнут пилотный выпуск 10-нанометровой продукции еще до конца текущего года, а применение этой технологии в массовом производстве начнется в 2016 году.

Освоение EUV сдерживается высокой стоимостью оборудования, превышающей 100 млн долларов за один комплекс.

Известно, что среди тех, кто заказал у ASML оборудование для EUV-литографии, есть компании Samsung, Intel и IBM. Кроме того, Samsung, Intel и TSMC являются инвесторами ASML. Напомним, в июле 2012 года Intel купила 15% ASML за 4,1 млрд. долларов, чтобы ускорить развитие полупроводниковых технологий ^[1], а в августе того же года ее примеру последовали компании Samsung и TSMC ^[2]. В результате всех транзакций Intel, TSMC и Samsung суммарно досталось 23% акций ASML.

Источник: CDR Info ^[3]

Источник ^[4]