У Picosun готовы решения для ALD с соблюдением норм 10 нм

Финская компания Picosun, специализирующаяся на выпуске реакторов для атомно-слоевого осаждения (Atomic Layer Deposition, ALD), сообщила о готовности решений, предназначенных для 10-нанометрового полупроводникового производства.

Как утверждается, не имеющие себе равных наработки Picosun в указанной области позволили предложить совершенно новые инструменты и методы производства, пригодные для производства микропроцессоров, памяти и силовых электронных компонентов, а также многофункциональных датчиков для медицинского оборудования. Разработки выполнены в рамках участия Picosun в шести международных европейских проектах под эгидой Horizon2020 и ECSEL.

Как скоро решения Picosun для ALD в 10-нанометровом полупроводниковом производстве поступят к заказчикам, и где именно они будут установлены — источник не сообщает.

Источник: Picosun ^[1]

Источник ^[2]