- PVSM.RU - https://www.pvsm.ru -
На сайте компании Toshiba опубликовано сообщение о подписании соглашения с SK Hynix, предметом которого является совместная разработка технологии нанопечатной литографии [1] (Nano Imprint Lithography, NIL). Соглашение является следствием меморандума о взаимопонимании [2], подписанного во второй половине декабря прошлого года.
Специалисты двух компаний начнут совместную разработку базовых технологий нового техпроцесса на иокогамской площадке Toshiba в апреле этого года. Ожидается, что к практическому применению техпроцесс будут готов в 2017 году.
По теме NIL компания Toshiba уже сотрудничала с несколькими производителями оборудования и материалов, которые помогали интегрировать свои разработки в полупроводниковое производство Toshiba. Программа сотрудничества с SK Hynix направлена на ускорение практического внедрения новой технологии. Кроме того, участие партнера должно помочь Toshiba уменьшить расходы.
Наряду с литографией в жестком ультрафиолетовом диапазоне, NIL является одним их кандидатов на роль технологии, которая будет использоваться для выпуска микросхем памяти будущих поколений, сменив традиционную фотолитографию.
Источник: Toshiba [3]
Источник [4]
Сайт-источник PVSM.RU: https://www.pvsm.ru
Путь до страницы источника: https://www.pvsm.ru/news/82041
Ссылки в тексте:
[1] нанопечатной литографии: http://www.ixbt.com/news/hard/index.shtml?08/32/46
[2] меморандума о взаимопонимании: http://www.ixbt.com/news/hard/index.shtml?18/50/85
[3] Toshiba: http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr0501.htm
[4] Источник: http://www.ixbt.com/news/hard/index.shtml?18/62/77
Нажмите здесь для печати.