Первый серийный российский литограф, позволяющий производить
чипы по нормам 350 нм, планируют передать заказчику в декабре 2026 года. По
данным источников CNews, первой установку получит компания «Маппер», входящая
через холдинг «Швабе» в Ростех. Следующая серийная машина предназначена для
компании «Отраслевые решения» группы «Элемент».
Отечественная машина разработана Зеленоградским нанотехнологическим
центром (ЗНТЦ). Разрешение 350 нм востребовано при выпуске силовой и
автомобильной электроники, а также компонентов для промышленного оборудования. Установку
ЗНТЦ разработал совместно с белорусской компанией «Планар». Она получила
рабочее поле 22 х 22 мм, поддерживает пластины диаметром до 200 мм и использует
твердотельный лазер вместо традиционной ртутной лампы. Такой источник излучения
должен обеспечить более высокую мощность и энергоэффективность.
Производительность литографа достигает 63 пластин диаметром
150 мм в час. При работе с 200-миллиметровыми пластинами установка способна
обрабатывать до 43 пластин в час.
Базовая версия машины оценивается в 392 млн рублей без НДС.
Комплектация с расширенным сервисным обслуживанием и дополнительной пятилетней
гарантией стоит 561 млн рублей — сопоставимые зарубежные установки обходятся на
40–60% дороже. Срок изготовления одного литографа составляет около 18 месяцев
после внесения аванса в размере половины стоимости.
Первым эксплуатантом станет московская фабрика «Маппер»,
которая занимается контрактным производством кремниевых элементов по технологии
МЭМС. Предприятие располагает 1500 кв. м чистых помещений, обрабатывает до 5
тысяч пластин в год и участвует в проекте по созданию инфракрасных матриц для
тепловизоров и беспилотников.
На этом проект не заканчивается. Следующим этапом станет
серийный отечественный литограф с разрешением 130 нм, который также
разрабатывается совместно с компанией «Планар». Опытный образец установки
анонсировали в августе 2026 года, стоимость опытно-конструкторских работ
оценивается в 5,7 млрд рублей.
Начать серийные поставки литографов, позволяющих выпускать
130-нанометровые чипы, планируется уже в 2027 году.
