Современный мир сложно представить без компании ASML. Она неизвестна большинству обычных людей, не касающихся темы полупроводников, но именно её литографические машины используются почти всегда, когда речь заходит о создании хоть сколько-то современных чипов. И вот в США появилась компания, которая готова оспорить монополию голландцев.
Американский стартап Substrate планирует заняться разработкой литографических машин, работающих на несколько других принципах, нежели машины ASML.
Речь идёт о создании литографического оборудования, сопоставимого с установками ASML EUV, но вместо привычного экстремального ультрафиолетового излучения Substrate планирует использовать коротковолновое рентгеновское излучение, генерируемое ускорителем частиц.
Стартап уже привлек 100 млн долларов благодаря инвесторам, включая Founders Fund, и достиг оценки в 1 млрд долларов.
Substrate утверждает, что благодаря своей уникальной технологии может снизить стоимость использования по сравнению EUV-оборудованием ASML. Компания уже представила свою технологию, и некоторые эксперты назвали её впечатляющим достижением.
Substrate планирует использовать рентгеновское излучение с более короткой длиной волны, чем EUV-излучение 13,5 нм, что обеспечивает более надёжную печать. Стартап утверждает, что ему удалось значительно снизить стоимость литографии чипов.
