Минпромторг заключил контракт на 1,475 млрд рублей с
петербургской компанией «Научное и технологическое оборудование» (SemiTEq) на
разработку отечественной установки молекулярно-лучевой эпитаксии. Проект
получил название «Цитадель», завершить создание опытного образца планируется до
31 октября 2030 года.
Новая установка предназначена для выращивания
монокристаллических полупроводниковых слоев и формирования гетероструктур на
основе соединений индия, алюминия, галлия и мышьяка (InAlGaAs). Такие материалы
применяются при производстве сложных полупроводниковых приборов, включая
высокочастотную и оптоэлектронную компонентную базу.
Оборудование будет работать с пластинами диаметром 76 и 100
мм. По техническому заданию установка должна одновременно обрабатывать не менее
пяти 76-миллиметровых или трех 100-миллиметровых подложек.
Одним из ключевых требований проекта стала максимальная
локализация. Вакуумные камеры, насосы, молекулярные источники, вакуумная
арматура, центральный контроллер и программное обеспечение должны быть
российского производства. Использование зарубежных критически важных
компонентов допускается только после отдельного согласования с Минпромторгом.
Сейчас прямого отечественного аналога установок такого
класса фактически нет. «Цитадель» должна стать альтернативой промышленным
системам французской Riber 49 и американской Veeco GEN200, которые применяются
для молекулярно-лучевой эпитаксии.
Исполнителем проекта стала петербургская «НТО», основанная в
2001 году. Компания специализируется на оборудовании для электронной
промышленности и уже выпускает установки молекулярно-лучевой эпитаксии, а ранее
представила производственные системы для работы с пластинами диаметром до 150
мм.
При этом проект пока находится на стадии разработки:
контракт предусматривает создание конструкторской документации и изготовление
опытного образца. О серийном производстве новой установки речи пока не идет.
