Россия и Белоруссия
совместно изготовили опытный образец литографической установки для производства
микросхем по техпроцессу 130 нм. Об этом заявил первый вице-премьер РФ Денис
Мантуров на пленарной сессии форума «Микроэлектроника».
По словам Мантурова, для установки разработали собственный эксимерный лазер.
Это, как отметил первый вице-премьер, позволило России войти в число стран,
обладающих соответствующей технологией.
Параллельно Россия развивает электронно-лучевую литографию, которая
используется в том числе при изготовлении фотошаблонов для производства
микросхем. В Зеленограде завершается создание научно-технологического центра,
где планируется наладить выпуск таких изделий. Проект предусматривает поэтапное
освоение более современных топологических норм — вплоть до 28 нм.
Отдельное направление — создание собственных материалов и химических
продуктов для микроэлектроники. По словам Мантурова, за последние три года в
России освоили производство около 60 критически важных позиций.
