Китайская компания Landau Flint впервые публично показала прототип источника
экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), предназначенного для
высокоточной фотолитографии при производстве микросхем. Разработку представили
на 26-й Китайской международной промышленной выставке в Шанхае. По данным
издания Liberation Daily, уровень локализации системы достигает 90%, большинство
ключевых компонентов разработаны самостоятельно.
Источники EUV-излучения считаются одним из трёх основных компонентов
литографических установок для выпуска передовых чипов с техпроцессом 7 нм и
меньше. Такие технологии долгое время оставались под контролем зарубежных
производителей и были недоступны китайским компаниям из-за технологических
ограничений и экспортных запретов. Создание собственного источника излучения —
важный этап для развития национального производства оборудования для выпуска
передовых микросхем.
По словам представителей компании, показанный прототип использует
технологический подход, сопоставимый с решениями ведущих мировых
производителей, и уже может применяться для испытаний по экспонированию чипов.
При этом до промышленного производства ещё далеко: по оценке сотрудников на
выставке, на подготовку к серийному выпуску потребуется от трёх до пяти лет.
Основные задачи — увеличить мощность излучения и обеспечить стабильную работу
системы в течение длительного времени.
На официальном сайте Landau Flint представлены несколько разработок в этой
области: высокомощный источник FlintMicro-LPP Alpha01, система EUV-излучения на
основе лазерно-индуцированной плазмы и маломощная установка FlintNano LPP-OXXO.
В компании сообщают, что серия Flint Micro-LPP прошла демонстрацию принципа
работы, а Flint Nano-LPP находится на этапе подготовки к коммерческому
применению.
Согласно опубликованным характеристикам, FlintNano LPP-OXXO использует лазер
мощностью 1000 Вт с частотой от 1 до 20 кГц. Заявленная мощность EUV-излучения
превышает 15 Вт, непрерывное время работы — свыше 100 часов. Также компания
указывает стабильность плазмы на уровне 3% RMS и энергетическую стабильность
5%. Однако этих показателей пока недостаточно, чтобы говорить о готовности
установки к промышленной эксплуатации: коммерческим EUV-системам требуются
источники мощностью в сотни ватт, рассчитанные на длительную и надёжную работу.
Landau Flint основана в 2024 году командой, работающей над технологией
LPP-EUV на базе исследований лаборатории газоразрядной плазмы Университета
Цинхуа. Компания занимается разработкой оборудования для производства
полупроводников и программных средств моделирования плазмы. В 2025–2026 годах
она привлекла несколько раундов финансирования, в том числе инвестиции Woyan
Capital и SMIC Capital.
