Полупроводниковая индустрия движется вперед стремительными темпами: чипы становятся все компактнее, производительнее и энергоэффективнее, подпитывая инновации от искусственного интеллекта до автономного транспорта. Но EUV-литография, несмотря на свои достижения, сталкивается с серьезными препятствиями: сложные оптические системы, колоссальные затраты и физические ограничения в разрешении.
И тут на горизонте появляется литография B-EUV (Beyond EUV), основанная на мягком рентгеновском излученииЧитать полностью »