Рубрика «электронно-лучевая литография»

Это 3-я статья из цикла.

1-я статья — Технология электронно-много-лучевой литографии от IMS Nanofabrication

2-я статья - Mapper — наш, или еще одна технология электронно-много-лучевой литографии

KLA-Tencor Corporation – крупный производитель оборудования для всех этапов производства микроэлектроники: пластин, матриц, микросхем и упаковки. От исследований и разработок до конечного серийного производства. В корпорации прекрасно понимают потребности и тенденции в отрасли, продолжают разработку электронно-многоЧитать полностью »

Для начала о проблеме.

Из каждого «утюга» мы слышим о нанометрах в микроэлектронике. Те, кто чуть глубже погружен в тему слышали о том, что для получения заветных нанометров используют литографы и что самые продвинутые производители микросхем переходят с литографов на DUV (Deep Ultra-Violet, Глубокий ультрафиолет с длиной волны 193 нм) на EUV (Extreme Ultra-Violet, Экстремальный ультрафиолет с длиной волны 13,5 нм).

Читать полностью »

This is Science: 3D электронная литография в массы

Электронной литографией нынче не удивишь никого, ей пророчат весьма успешное будущее в микроэлектронике. Даже РосНано планирует к закупке электронно-лучевую литографию Mapper. А как на счёт материалов – что станет основой фоторезиста будущего?
Читать полностью »


https://ajax.googleapis.com/ajax/libs/jquery/3.4.1/jquery.min.js