Рубрика «литограф»
ASML: от аутсайдера — к одному из главных бенефициаров ИИ-бума
2026-01-07 в 10:28, admin, рубрики: ASML, asml holding nv, литограф, литография, Развитие стартапа
Что из себя представляет российский литограф
2024-07-29 в 9:00, admin, рубрики: ASML, Delete A, Delete America, huawei, Mate 60, ruvds_статьи, SMIC, TSMC, беларусь, Бештау, импортозамещение, китай, Лассард, литограф, литография, микроэлектроника
В мае 2024 года по российским СМИ в очередной раз разошлась «сенсационная» новость: в России создали и тестируют собственный литограф на 350 нм: «Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», — сообщил заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак.
Неужели в условиях санкций и эффективной технологической блокады возможно проектирование и разработка собственного высокотехнологического оборудования? Если вы понимаете, как разрабатываются и производятся процессоры, а также российскую специфику после 24.02.2022, то в эту новость особенно трудно поверить.
И действительно, если разобраться, о чём речь, то оказывается, что «новый российский литограф» не очень новый. И не совсем российский.
Читать полностью »
KLA-Tencor — революция в много-лучевой электронной литографии
2023-03-11 в 0:20, admin, рубрики: литограф, литография, микроэлектроника, Производство и разработка электроники, электронно-лучевая литографияЭто 3-я статья из цикла.
1-я статья — Технология электронно-много-лучевой литографии от IMS Nanofabrication
2-я статья - Mapper — наш, или еще одна технология электронно-много-лучевой литографии
KLA-Tencor Corporation – крупный производитель оборудования для всех этапов производства микроэлектроники: пластин, матриц, микросхем и упаковки. От исследований и разработок до конечного серийного производства. В корпорации прекрасно понимают потребности и тенденции в отрасли, продолжают разработку электронно-многоЧитать полностью »
Технология электронно-много-лучевой литографии
2023-02-18 в 0:01, admin, рубрики: литограф, литография, микроэлектроника, Производство и разработка электроники, электронно-лучевая литографияДля начала о проблеме.
Из каждого «утюга» мы слышим о нанометрах в микроэлектронике. Те, кто чуть глубже погружен в тему слышали о том, что для получения заветных нанометров используют литографы и что самые продвинутые производители микросхем переходят с литографов на DUV (Deep Ultra-Violet, Глубокий ультрафиолет с длиной волны 193 нм) на EUV (Extreme Ultra-Violet, Экстремальный ультрафиолет с длиной волны 13,5 нм).
